拓荆科技股分无限公司首要处置高端半导体公用装备的研发、出产、发卖和手艺办事。公司聚焦的半导体薄膜堆积装备与光刻机、刻蚀机配合组成芯片创设三大主装备。公司首要产物包罗等离子体加强化学气相堆积（PECVD）装备、原子层堆积（ALD）装备和次常压化学气相堆积（SACVD）装备三个产物系列。

　　华夏上市公司网讯4月19日，拓荆科技股分无限公司(履行简称“拓荆科技”或公司)表露了初次公然辟行股票上市通告书，公司将于2022年4月20日在上交所科创板上市，股票简称为“拓荆科技”，股票代码为&

　　华夏上市公司网讯4月12日，拓荆科技股分无限公司初次公然辟行股票(履行简称“拓荆科技”)公布了网上中签后果通告，中签号码公有16,269个。拓荆科技中签后果以下：最后位数中签号码末“4”位数3

　　拓荆科技首要处置高端半导体公用装备的研发、出产、发卖和手艺办事。公司聚焦的半导体薄膜堆积装备与光刻机、刻蚀机配合组成芯片创设三大焦点装备。公司首要产物包罗等离子体加强化学气相堆积（PECVD）装备、原子层堆积（ALD）装备和次常压化学气相堆积（SACVD）装备三个产物系列，已普遍利用于国际晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路创设产线nm 及履行制程产物考证尝试。

　　公司创制于 1967 年，系美国纳斯达克证券买卖所上市公司（股票代码：AMAT），首要处置半导体装备的研发半岛app官方网站、出产和发卖，首要产物包罗原子层堆积装备、化学薄膜堆积装备、电化学堆积装备、物理薄膜堆积装备、刻蚀装备、敏捷热处置装备、离子注入机、化学呆板抛光装备等。

　　公司创制于 1980 年，系美国纳斯达克证券买卖所上市公司（股票代码：LRCX），首要处置半导体装备的研发、出产和发卖，首要产物包罗刻蚀装备、薄膜堆积装备、晶圆洗濯装备、光致抗蚀装备等。

　　公司创制于 1963 年，系东京证券买卖所上市公司（股票代码：8035.TYO），首要处置半导体装备的研发、出产和发卖，其首要产物包罗显像装备、热处置成膜装备、干法刻蚀装备、湿法洗濯装备及尝试装备及死板液晶显现装备等。

　　公司创制于 1968 年，是一家荷兰晶圆创设半导体工艺装备的供给商，阿姆斯特丹泛欧买卖所上市公司（股票代码：ASM）。公司产物涵盖了晶圆加工手艺的主要方面，包罗光刻、堆积、离子注入和单晶圆内涵。